光刻技術實際上是一種精密表面加工技術，它借助于一定波長的激光光源以及選擇性的化學腐蝕和刻蝕技術把設計的微納圖案轉移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術已經難以滿足當前對線寬越來越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設備又極其昂貴。為了擺脫光學衍射極限和克服高成本的限制，一種操作簡單，成本低廉的納米壓印技術產生了。納米壓印的技術核心是充分利用機械能將剛性模板上的圖案轉到抗蝕劑上，之后再借助溶脫、剝離、刻蝕等將圖案轉移到基板上。到目前為止壓印技術已經發(fā)展出來多種類型，典型的包括熱塑壓印技術、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術等。

 

　　該款納米壓印機一種非常靈活的儀器。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm（8英寸）圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動的，軟件用戶可以*控制壓印過程。

　　特色：

　　1、體積小巧，容易存放，桌面型；

　　2、輕微復制微米和納米級結構；

　　3、熱壓印溫度高達200℃；

　　4、可選的高溫模塊，適用于250℃；

　　5、可選的UV模塊，適用于405nm曝光；

　　6、真空納米壓印（腔室可抽真空至0.1mbar）；

　　7、納米壓印壓力高達11bar；

　　8、溫度分布均勻、讀數(shù)準確；

　　9、筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，*靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)。